| １９４８年 ９月 | 安藤正彦、河野博協同で杉並区高円寺にて河野写真工芸社を創立 |
| １９５０年 １月 | 渋谷区宇田川町15番地に移転 |
| １９５３年１０月 | 大井営業所を新設 |
| １９６１年１２月 | コーノ写真発足、安藤正彦社長となる |
| １９６８年 １月 | 玉川ミクロセンターを新設 |
| １９７０年 月 | スクリーン自動乳剤塗布機の開発に成功 |
| １９７１年 １月 | グループ会社サン技研株式会社発足 |
| ７月 | 大田営業所の施設を拡充し、老朽化した大井営業所を閉鎖合併 |
| １９７３年 ５月 | 社名を株式会社コーノ写真より東京プロセスサービス株式会社に変更 |
| １９７７年 ７月 | 大田ミクロセンターを新設 |
| １９８０年 ８月 | 開発センターを新設 |
| １９８１年 ９月 | 大田区多摩川にゼナ営業所を新設 |
| １１月 | 相模原市下九沢に橋本工場を新設 |
| １９８６年 ３月 | 図形処理センター新設 |
| １９８８年１０月 | 橋本工場を相模原センターに改称 |
| １９８９年１２月 | 資本金５０００万円に増資 |
| １９９０年 ４月 | グループ会社、(株)トープロ表面処理研究所が発足 |
| １０月 | 名古屋ミクロセンター新設 |
| １９９５年１１月 | 北陸センター社屋を石川県小松市東部産業振興団地内に新設 |
| | 大田ミクロセンターにメタルマスク用レーザー加工機導入 |
| １９９６年１２月 | 北陸センター増築 |
| １９９７年１０月 | 大型高精度レーザー描画装置導入 |
| １９９９年 ７月 | 全営業活動を本社（渋谷区）に統合 |
| １２月 | ISO 9002 取得 |
| ２０００年 ２月 | 大田ミクロセンターに高精度レーザー加工機導入 |
| ２００１年 ５月 | 材料開発センターが相模原市田名へ移転 |
| １１月 | 大型ＰＤＰ用スクリーンマスク開発研究部門として北陸技術開発センターを
石川県辰口町サイエンスパーク内に新設 |
| ２００２年１１月 | ISO 9001：2000にアップグレード |
| ２００３年 ３月 | グループ会社トープロテクノサービス（株）発足、設計業務開始 |
| ８月 | 北陸センターに高精細レーザー描画装置導入 |
| ２００４年 ３月 | 本社を渋谷区神南1丁目に移転 |
| ７月 | 図形処理センターに超高精度レーザープロッター2号機を導入 |
| | ＩＳＯ14001：1996を取得 |
| ２００５年１１月 | 北陸技術開発センターに第2研究棟増設 |
