製品情報

フォトマスク

フォトマスクとは

  • フォトマスクは、 電子部品(半導体)やプリント基板、MEMSなどを製造するときに使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板で、パターニングの原版になるものです
  • フォトリソグラフィという転写技術を使って、電子部品やプリント基板の回路パターンなどを転写するための原版となるものです

TOPROのフォトマスク製造の特長

特長1 高精度フォトマスク製品の品質保証

当社ではフォトマスク製品のトータルピッチ測定検査にFPDトータルピッチ測定装置「Mercury」を使用。 高精度なフォトマスクの品質向上と品質保証と安定品質製品を提供しております。

高精度測定装置 Mercuryでの測定検査高精度測定装置 Mercuryでの測定検査

特長2 短納期納品を可能にする生産体制

クロムマスク製造においては、24時間稼働の生産体制をご用意しており、可能な限り短納期での納品が可能です。

フォトマスクラインナップ

をご用意しております。確かな品質と納期でご提供いたします。

フォトマスク比較表

基材/製造規格

  フィルムマスク ガラスマスク クロムマスク
基材規格 基材 ポリエステル ソーダライム ソーダライム/人工石英
基材厚み 175μm 1.6~5.0mm 1.0~5.0mm
膜質 銀塩ゼラチン乳剤 銀塩ゼラチン乳剤 低反射2層クロム/単層クロム/3層クロム
膜厚 7~8μm 5~6μm 90~110nm
対応サイズ ~711×813mm ~812.8×1379.22mm 76.2×76.2mm~508×609.6mm
描画エリア ~690×800mm ~711.2×1277.62mm 75×75mm~460×550mm
製造規格 最小ライン 30μm 20μm 2μm
短寸法精度 ±3μm~ ±1μm~ ±0.2μm~
長寸法精度 ±20μm~ ±3μm~ ±0.5μm~

画質比較(30μm)

  フィルムマスク ガラスマスク クロムマスク
画像 フィルムマスク画質 ガラスマスク画質 クロムマスク画質

各基材の伸縮率

  ポリエステル ソーダライム 人工石英
温度 伸縮率 0.001% 0.00085% 0.00006%
1メートル換算 10.0μm/℃ 8.5μm/℃ 0.6μm/℃
湿度 伸縮率 0.0015% なし なし
1メートル換算 15.0μm/% なし なし

フィルムマスク

フィルムマスク

フォトマスクの中で、コストパフォーマンスに優れたベーシックなマスク。また、ポリエステルベースであるため、軽量で柔軟性があるため取り扱いが容易。

用途

PWB、FPC、電子部品、グラフィックなど

特徴

  • 最もコストパフォーマンスに優れたフォトマスクです
  • ポリエステルベースのため、軽量で柔軟性があり、取り扱いが容易です
  • データ編集時からの細やかな対応が可能です
  • 30μm程度のファインパターンに対応します

対応データ

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2 /ODB++
※機密性の高い送受信方法もご用意しておりますので、ご相談ください。

オプション

ラミネートフィルムの貼り付けに対応

規格・仕様

基材 ポリエステル
対応サイズ ~711☓813mm
素材厚み 175μm
膜質 銀塩ゼラチン乳剤
膜厚 7~8μm
最小ライン 30μm
短寸法精度 ±3.0μm~
長寸法精度 ±20μm~
温度変化率 0.001%
湿度変化率 0.0015%
※対応サイズに関しては上記以外にもございますので、お問い合わせください。

エマルジョンガラスマスク

エマルジョンガラスマスク

フォトマスクの中で、高解像性エマルジョンを使用し、ガラスベースであるためフィルムマスクにくらべ、寸法安定性が高いのが特徴。

用途

FPD(LCD/OLED)、電子部品、パッケージなど

特徴

  • ガラスベースのためフィルムマスクにくらべ、寸法安定性が高くなっています
  • 銀粒子が細かいため、フリンジが少なく解像性に優れています
  • データ編集時からの細やかな対応が可能です
  • 高解像性のエマルジョンで、20μm程度のファインパターンに対応します

※条件によっては20μm以下のパターンも可。お問い合わせください。

対応データ

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※機密性の高い送受信方法もご用意しておりますので、ご相談ください。

基材 ソーダライム
対応サイズ ~32☓43インチ
素材厚み 1.6mm~5.0mm
膜質 銀塩ゼラチン乳剤
膜厚 5~6μm
最小ライン 20μm
短寸法精度 ±1.0μm~
長寸法精度 ±3.0μm~
温度変化率 0.00085%
湿度変化率 なし
※対応サイズに関しては上記以外にもございますので、お問い合わせください。

クロムマスク

クロムマスク

高精細、高精度、全てを満たしたハイスペックガラスマスク。人工石英材を選択することにより露光中の温度変化に対しても寸法を安定させることが可能。最小パターン幅2μmまで対応可能な高精細なマスク。

用途

MEMS、FPD(LCD/OLED)、WLP、薄膜チップ部品など

特徴

  • フリンジがないため、超高精細の画像形成に適しています
  • 人工石英材を選択することにより、露光中の温度変化に対しても寸法を安定させることが可能です
  • 遮光膜の膜厚が薄いため、転写性能に優れています
  • 最小パターン幅2μmまで対応可能です

対応データ

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※機密性の高い送受信方法もご用意しておりますので、ご相談ください。

オプション

  • APコート(クロム表面の離型性付加)
  • 静電破壊対応マスク
基材 ソーダライム/人工石英
対応サイズ 76.2x76.2mm~508.8x609.6mm
素材厚み 1.0mm~5.0mm
膜質 低反射2層クロム/単層クロム/3層クロム
膜厚 90~110nm
最小ライン 2μm
短寸法精度 ±0.2μm~
長寸法精度 ±0.5μm~
温度変化率 0.00085%(ソーダライム)
0.00006%(人工石英)
湿度変化率 なし
※対応サイズに関しては上記以外にもございますので、お問い合わせください。
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